Contour Measurement Instrument는 5축 구조를 기반으로, 리니어 X‧Y‧Z 축이 정밀 위치결정을 담당하고 두 개의 레벨링 축이 시편의 피치(Pitch)와 롤(Roll)을 보정하여 스캔·절단 평면을 기준면과 완벽히 일치시킵니다.

자동 레벨링 및 기준 정합 시스템을 통해 전체 측정 영역에서 약 2~3 μm 수준의 평행도·정밀도를 보장하며, 작업자 의존도를 낮춰 셋업 변동을 최소화합니다.

계측에는 나노미터급 컨포컬 레이저 변위 센서가 사용되어 고주파 노이즈를 억제하면서도 서브마이크론 분해능을 유지합니다. 또한 고정밀 엔코더가 탑재된 클로즈드 루프 리니어 스테이지는 위치 드리프트를 최소화하고 반복 이송 시 일관된 포지셔닝 품질을 제공합니다.

정밀 광학계와 방진·감쇠 설계를 최적화하여 SNR(신호대잡음비)를 향상시켰으며, 미세 단계 이동에서도 신뢰성 높은 표면 형상 데이터를 확보합니다. 또한 온도 보상·셀프 캘리브레이션 기능으로 환경 변화에 따른 판독 편차를 안정적으로 제어합니다.

이렇게 취득한 변위 맵(Displacement Map)은 Contour Method의 FEA 역산 입력 데이터로 사용될 때 왜곡이 적고 재현성이 높아 Stress Map 신뢰도를 크게 향상시킵니다.

결과적으로, 5축 아키텍처와 나노급 계측 체계의 결합은 마이크론급 정확도를 현장에서 안정적으로 구현하며, 해석–검증–리포팅 전 과정에서 산업용 수준의 분해능과 반복도를 보장합니다.